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https://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/15427
Tipo de Documento: | Tese |
Título: | Caracterizações de filmes finos de titanato de cobalto para aplicação em sistemas memristivos |
Autor(es): | Góis, Meirielle Marques de |
Data do documento: | 3-Mar-2020 |
Orientador: | Macêdo, Marcelo Andrade |
Resumo: | Investigamos filmes finos de P t/Co0,2T iO3,2/IT O e P t/Co2T i0,7O4−δ/IT O com diferentes espessuras a partir da técnica de magnetron sputtering, com o objetivo de avaliar seus potenciais de aplicação em dispositivos memristors. Foram utilizadas caracterizações por difratometria de raios X (DRX), reflectometria de raios X (RRX), espectroscopia de retroespalhamento Rutherford (RBS), espectroscopia de fotoelétrons por raios X (XPS), espectroscopia UV–VIS, análises elétricas e magnéticas. Os sistemas com estrutura de baixa cristalinidade apresentaram desempenho multifuncional revelando propriedades de comutação resistiva binária e analógica. A presença de vacâncias de oxigênio confirmadas por XPS e absorção UV–VIS são agentes ativos no processo de transporte elétrico da comutação filamentar e na atividade adaptativa da condutância. Testes de retenção nos regimes de alta (HRS) e baixa (LRS) resistência revelaram uma boa razão entre os estados resistivos, com magnitudes na ordem de 104 e 106. Além disso, a existência de íons Co2+ e Co3+ proporcionaram um comportamento paramagnético em 300 K e fraco ferrimagnetismo em 5 K, assim como um efeito magnético capaz de influenciar na resposta elétrica dos dispositivos. |
Abstract: | We investigated thin films of P t/Co0,2T iO3,2/IT O and P t/Co2T i0,7O4−δ/IT O with different thicknesses using the magnetron sputtering technique, in order to evaluate its application potentials in memristors devices. We used characterizations by X–ray diffraction (XRD), X–ray reflectometry (XRR), Rutherford backscattering spectrometry (RBS), X–ray photoelectron spectroscopy (XPS), UV–VIS spectroscopy, electrical and magnetic analyzes. The systems with low crystallinity structure presented multifunctional performance revealing binary and analog resistive switching properties. The presence of oxygen vacancies confirmed by XPS and UV–VIS absorption are active agents in the electrical transport process of filamentary switching and adaptive conductance activity. Retention tests at high (HRS) and low (LRS) resistance regimes revealed a good ratio between resistive states, with magnitudes in the order of 104 and 106 . In addition, the existence of Co2+ and Co3+ ions provided a paramagnetic behavior at 300 K and weak ferrimagnetism at 5 K, as well as a magnetic effect capable of influencing the electrical response of the devices. |
Palavras-chave: | Memristor Comutação resistiva Filmes finos Co0,2T iO3,2 Co2T i0,7O4−δ Resistive switching Thin films |
área CNPQ: | CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA |
Agência de fomento: | Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior - CAPES |
Idioma: | por |
Sigla da Instituição: | Universidade Federal de Sergipe |
Programa de Pós-graduação: | Pós-Graduação em Física |
Citação: | GÓIS, Meirielle Marques de. Caracterizações de filmes finos de titanato de cobalto para aplicação em sistemas memristivos. 2020. 114 f. Tese (Doutorado em Física) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, 2020. |
URI: | https://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/15427 |
Aparece nas coleções: | Doutorado em Física |
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Arquivo | Descrição | Tamanho | Formato | |
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