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dc.contributor.authorPassos, Renata Almeidapt_BR
dc.date.accessioned2017-09-26T12:01:54Z-
dc.date.available2017-09-26T12:01:54Z-
dc.date.issued2011-06-30-
dc.identifier.urihttps://ri.ufs.br/handle/riufs/3497-
dc.description.abstractThis work explored the adsorption of organic molecules to achieve change on surfaces. In this context it was proposed, the adsorption of organic molecules of halogenated derivatives of uracil, 5 Fluorouracil and 5 Chlorouracil, in monocrystalline substrate of HOPG (highly oriented pyrolytic graphite), sizzling was the technique used for construction of self-assembled monolayers (SAM). The atomic resolution of the STM (Scanning Tunneling Microscope) images of HOPG substrate prove its hexagonal structure and that their interatomic distance is 0.246 nm. While in the molecular resolution images of 5 Fluorouracil and of 5 Chlorouracil adsorbed on the HOPG substrate, is presented evidence that after in the adsorption some changes occur in the intermolecular distances in the structures and the positioning of these molecular films formed on the substrate because the molecular films behaved in a horizontal position and were stabilized laterally by hydrogen bonds when they are protonated, but when we performed the same procedure of adsorption for these organic molecules, only varying the pH of the environment, the change caused the deprotonation of the molecules, thus allowing one to simulate electrochemical environment and being able to extract information about the pKa of adsorbates using UV-Vis spectroscopy, and was also observed that these deprotonated molecular films behaved in a vertical position on the substrate.eng
dc.description.sponsorshipCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superiorpt_BR
dc.formatapplication/pdfpor
dc.languageporpor
dc.publisherUniversidade Federal de Sergipepor
dc.rightsAcesso Abertopor
dc.subject5 Fluorouracilpor
dc.subject5 Clorouracilpor
dc.subjectSTMpor
dc.subjectDeprotonaçãopor
dc.subjectPKapor
dc.subjectUV-Vispor
dc.subject5 Fluorouracileng
dc.subject5 Chlorouracileng
dc.subjectSTMeng
dc.subjectDeprotonationeng
dc.subjectPKaeng
dc.subjectUV-Viseng
dc.titleAdsorção de 5 fluorouracil e 5 clorouracil sobre HOPG : um estudo da importância do estado de protonação via microscopia de varredura por tunelamentopor
dc.typeDissertaçãopor
dc.creator.Latteshttp://lattes.cnpq.br/3772700256483725por
dc.contributor.advisor1Latteshttp://lattes.cnpq.br/4243799246537777por
dc.contributor.advisor1Cunha, Frederico Guilherme de Carvalhopt_BR
dc.description.resumoNeste trabalho foi explorada a adsorção de moléculas orgânicas para realizar modificação em superfícies. Neste contexto foi proposta a adsorção das moléculas orgânicas de derivados halogenados do uracil, o 5 Fluorouracil e o 5 Clorouracil no, substrato monocristalino do HOPG (Grafite Pirolítico Altamente Orientado do inglês, Highly Oriented Pyrolitic Graphite), sendo usada a técnica de sizzling para construção de monocamadas automontadas (SAM Self-Assembled Monolayers). As imagens de STM (Scanning Tunneling Microscopy) de resolução atômica do substrato de HOPG comprovam sua estrutura hexagonal e sua distância interatômica que é de 0,246 nm. Já nas imagens de resolução molecular do 5 Fluorouracil e do 5 Clorouracil adsorvido no substrato do HOPG, são apresentadas evidências de que após a adsorção ocorrem mudanças nas distâncias intermoleculares, nas estruturas e no posicionamento desses filmes moleculares formados no substrato, pois os filmes moleculares se comportaram em um posicionamento horizontal e são estabilizados lateralmente por ligações de hidrogênio quando estão protonadas, mas quando foi realizado o mesmo procedimento de adsorção para essas moléculas orgânicas, só que variando o pH do meio, esta variação provocou a deprotonação das moléculas, assim permitindo simular um ambiente eletroquímico e sendo possível extrair informação sobre o pKa dos adsorbatos usando a espectroscopia UV-Vis, e foi observado também que estes filmes moleculares deprotonados se comportaram em um posicionamento vertical no substrato.por
dc.publisher.programPós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiaispor
dc.subject.cnpqCNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICApor
dc.publisher.countryBRpor
dc.publisher.initialsUFSpor
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