Navegando por Assunto Thin films

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Data do documentoTítuloAutor(es)Tipo
4-Mar-2013Caracterização de filmes finos por reflectometria de raios xSilva, Adicleison Véla daDissertação
3-Mar-2020Caracterizações de filmes finos de titanato de cobalto para aplicação em sistemas memristivosGóis, Meirielle Marques deTese
17-Fev-2016Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativoCarvalho, Renata GomesDissertação
2-Mar-2017Deposição e caracterização de filmes finos de ZrMoN por magnetron sputtering reativoFontes Junior, Alberto SilvaDissertação
3-Mar-2017Deposição e caracterização de filmes finos TaA1N por magnetron sputtering reativoOliveira, Givanilson Brito deDissertação
5-Mai-2019Efeito da adição de háfnio na estrutura, resistência ao desgaste e oxidação a altas temperaturas em filmes finos de MoS2Silva Neto, Pedro Cardoso daTese
27-Jul-2016Efeitos da interface e da dopagem nas propriedades estruturais, óticas e elétricas de filmes finos de ZnOGonçalves, Rafael SilvaDissertação
28-Nov-2013Estudo da magnetização e de comutação resistiva em amostras de ZnOSantos, Daniel Augusto de AndradeTese
30-Ago-2018Estudo das propriedades estruturais, óticas e elétricas de filmes finos de Zno dopados com Al e CrSantos, Irajan MoreiraDissertação
7-Nov-2018Estudo de comutação resistiva em filmes finos de Al2O3 e ZnO para aplicação em dispositivos de “memória resistiva de acesso aleatório” (RRAM) e interruptor eletrônico (IE)Rodrigues, Aline do NascimentoTese
14-Fev-2023Estudo sobre a formação da solução sólida em filmes finos de zrn+si depositados via magnetron sputtering reativoSantos, Júlio César Valeriano dosDissertação
14-Jun-2021Influência da temperatura de deposição nas propriedades mecânicas e tribológicas e na resistência à oxidação de filmes finos de Zr1-xSixN depositados por magnetron sputtering reativoTerto, André RomãoTese
6-Fev-2023Influência da temperatura do substrato na estrutura de filmes finos de ZrxSi1-XN depositados por magnetron sputtering reativoOliveira, Fábio Santos deDissertação
Out-2018Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputteringSantos, Ikaro Arthur DantasDissertação
19-Mar-2016Influência do teor de silício em filmes finos de nitreto de zircônio depositados por magnetron sputtering reativoFreitas, Flávio Gustavo RibeiroTese
19-Fev-2024Investigação estrutural de filmes finos de Ti1-xAlxN depositados por magnetron sputtering reativoDias, Iago LemosDissertação
2005Síntese e caracterização de nanocompósitos Ni:SiO2 processados na forma de filmes finosGouveia, Paulo Sérgio de; Escote, Márcia Tsuyama; Longo, Elson; Leite, Edson Roberto; Carreño, Neftalí Lenin Villarreal; Fonseca, Fabio Coral; Jardim, Renato de FigueiredoArtigo
2015Structural and mechanical properties of Zr-Si-N thin films prepared by reactive magnetron sputteringFreitas, Flávio Gustavo Ribeiro; Hübler, Roberto; Soares, Gabriel; Conceição, Amanda Gardênia Santos; Vitória, Edson Reis; Carvalho, Renata Gomes; Tentardini, Eduardo KirinusArtigo
25-Fev-2014Utilização da sacarose no crescimento de filmes de óxidos de vanádio via spray-piróliseSantos, Maria do Socorro de Andrade NevesDissertação